日本 DNP 开发出1.4nm级的纳米压印模板

大日本印刷(DNP)株式会社开发了一种用于纳米压印光刻（NIL）的模板，其电路线宽为10nm，可用于制成半导体电路图案。该模板兼容1.4nm级逻辑半导体，除了NAND闪存外，新开发的10nm线宽NIL模板还将满足智能手机、数据中心等设备中使用的尖端逻辑半导体的微型化需求。基于 NIL 的“超精细半导体节能加工技术”可以将功耗降低到传统曝光工艺（如 ArF 浸没和 EUV）的十分之一左右。DNP正在深化与半导体制造商和其他客户的对话，预测半导体小型化需求，并已开始对 NIL 模板进行评估工作，目标是在2027年开始量产。

—— 日经新闻